小間番号：6A-702
日本レーザー （にほんれーざー）
Japan Laser Corporation
- 一般展示
■事業内容
≪レーザー専門商社≫
世界のトップメーカーのレーザーやカッティングエッジ技術を実現したレーザー機器、最先端の光技術とその製品の輸出入を行っています。またレーザー加工装置や光を利用した分析装置等の幅広い提案を行っています。
■みどころ・出展製品
日本レーザーからは、種々の分析装置を出展致します！質量変化と粘弾性、膜厚をナノレベルでリアルタイムに解析が可能なQCM-D装置、またプロセスの濃度・濁度・色測定に最適なフォトメータはデモ機をご用意しております。
その他の出展製品の詳細は以下の製品情報をご参照ください。ご来場をお待ちしております。
■製品情報
IR分光イメージング(Molecular Vista社)
PiFMを採用し、また空間分解能10nm以下の最先端ナノスケール赤外分光装置。
3D測定顕微鏡"S neox" (Sensofar社)
従来比5倍の超高速測定を実現したクラス最高の面形状計測システム。
分子間相互作用解析装置(3T analytik社)
リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析。高性能で低価格。※デモ機有
高機能AFM～低価格AFM
高機能なものから低価格なものまで用途に応じた様々なAFM（原子間力顕微鏡）を取り揃えております。
インラインフォトメータ(KEMTRAK社)
インライン用の吸光光度計。プロセスの濃度・濁度・色測定に最適。※デモ機有
LIBS元素分析装置(SECOPTA社)
完全インライン向けLIBS元素分析システム。
QCL-IR赤外分析装置(Daylight Solutions社)
QCL-IRを採用した小型のガス・溶液用赤外分析装置。高速でリアルタイム測定が可能。
イメージング顕微鏡(Daylight solutions社)
イメージングQCL-IR顕微鏡(ビデオレートIR)。超高速でケミカルイメージ(化学組成マッピング)を測定可能。
レーザーアブレーション装置(ESL社)
高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。
基板用欠陥検査装置(Lumina Instruments社)
高速・高感度の欠陥イメージング装置。基板全面のエリアでオングストロームの感度を維持。