出展社詳細

小間番号:6A-702

日本レーザー (にほんれーざー)

Japan Laser Corporation

  • 一般展示

■事業内容

≪レーザー専門商社≫
世界のトップメーカーのレーザーやカッティングエッジ技術を実現したレーザー機器、最先端の光技術とその製品の輸出入を行っています。またレーザー加工装置や光を利用した分析装置等の幅広い提案を行っています。

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■みどころ・出展製品

日本レーザーからは、種々の分析装置を出展致します!質量変化と粘弾性、膜厚をナノレベルでリアルタイムに解析が可能なQCM-D装置、またプロセスの濃度・濁度・色測定に最適なフォトメータはデモ機をご用意しております。
その他の出展製品の詳細は以下の製品情報をご参照ください。ご来場をお待ちしております。

■製品情報

IR分光イメージング(Molecular Vista社)

PiFMを採用し、また空間分解能10nm以下の最先端ナノスケール赤外分光装置。

3D測定顕微鏡"S neox" (Sensofar社)

従来比5倍の超高速測定を実現したクラス最高の面形状計測システム。

分子間相互作用解析装置(3T analytik社)

リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析。高性能で低価格。※デモ機有

高機能AFM~低価格AFM

高機能なものから低価格なものまで用途に応じた様々なAFM(原子間力顕微鏡)を取り揃えております。

インラインフォトメータ(KEMTRAK社)

インライン用の吸光光度計。プロセスの濃度・濁度・色測定に最適。※デモ機有

LIBS元素分析装置(SECOPTA社)

完全インライン向けLIBS元素分析システム。

QCL-IR赤外分析装置(Daylight Solutions社)

QCL-IRを採用した小型のガス・溶液用赤外分析装置。高速でリアルタイム測定が可能。

イメージング顕微鏡(Daylight solutions社)

イメージングQCL-IR顕微鏡(ビデオレートIR)。超高速でケミカルイメージ(化学組成マッピング)を測定可能。

レーザーアブレーション装置(ESL社)

高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

基板用欠陥検査装置(Lumina Instruments社)

高速・高感度の欠陥イメージング装置。基板全面のエリアでオングストロームの感度を維持。